블랭크 마스크는 우리나라 주력 수출품목인 반도체 및 TFT-LCD (박막트랜지스터 액정표시장치), Color-Filter 등을 제조하는데 필수 구성요소인 포토마스크를 생산하기 위한 재료로서, 패턴이 노광되기 전의 마스크를 가리키며, Quartz 기판위에 금속막과 레지스트가 도포된 형태로 이루어져 있다. 여기서 포토마스크는 블랭크 마스크상에 E-Beam 또는 Optic 장치를 이용하여 일정한 패턴을 형성하는 과정으로써, 각 패턴은 투명과 불투명 영역에서 구분되어 입사하는 빛에 대하여 선택적 투과를 하게 하는 것이라고 할 수 있다.
블랭크 마스크는 패턴이 노광되기 전의 마스크를 블랭크 마스크라고 하며, Quartz 기판위에 금속막과 레지스트가 도포된 형태를 나타낸다. 블랭크 마스크는 일반적으로 BIM 블랭크 마스크 (Binary Mask) 와 PSM 블랭크 마스크 (Phase Shifter Mask) 으로 크게 2종류로 구분된다.
Binary 블랭크 마스크는 금속막이 차광막과 반사방지막으로 이루어져 있고, 차광막은 금속 타켓(Target) 에 주로 크롬(Cr) 이 사용되어 일정한 두께의 박막을 형성한다. 또한 반사방지막은 크롬의 금속 타켓에 아르곤 가스와 반응성 가스로 산소를 혼합하여 제조된다. 증착된 금속막 위에 전자빔 레지스트(E-Beam Resist) 또는 포토레지스트(Photo Resist) 를 도포하면 Binary 블랭크 마스크 제작이 완성된다.
PSM 블랭크 마스크는 반도체 장치가 고집적화되어 포토마스크에서 패턴이 미세해 짐에 따라 종래의 마스크에서는 소정 한계 이하의 선폭을 가지는 패턴을 형성하기가 불가능했던 고해상도와 초점심도를 웨이퍼상에 구현할 수 있는 최첨단 소재이다. PSM 블랭크 마스크는 BIM 블랭크 마스크와는 달리 위상 반전막을 포함하고 있는 것으로 Quartz 위에 위상 반전막과 금속막 그리고 레지스트의 구조를 이루고 있는 형태를 의미한다. 여기서 차광막은 입사광의 빛을 차단하는 역할을 하며 위상반전막은 투과하는 노광광의 위상을 동광로 길이의 공기를 통과하는 노광광의 위상에 대하여 사실상 반전하고, 또한 그 강도를 감쇠시키는 기능을 갖는 막이다. 그 위에 BIM 블랭크 마스크와 동일하게 레지스트를 도포하여 마스크 제작이 완성된다.
2005-02-26 19:02:07 
