한국의 포토 에칭 기술(Photo Etching Technology)은 세계에서도 독보적인 기술로, 세계 시장을 주도하는 강력한 원동력이 되고 있습니다. 포토 에칭 기술은 정밀도가 가장 높은 초정밀  가공기술로 금속 표면에 감광재를 도포하고 자외선을 받은 부분과 받지 않은 부분으로 분 리하여 금속을 에칭하는 첨단 가공 기술입다.

일반적으로 반도체 집적회로, CRT용 Shadow Mask, Lead Frame 등을 만들 때 사용되는 기술로 Photolithography 기술과 Etching 기술 이  접목된 기술을 말한다.   Photolithography 기술은 Pattern을 형성하 기 위하여 Substrate 위에 감광액을 도포하 고, Photo Mask을 통하여 자외선으로 감광막 을 선택적으로 노광하고 현상합니다.   현상된 감광막은 그 다음 공정인 Etching(식 각) 공정에서 보호막으로 작용하여 원하는 부 분만 선택적으로 가공되도록 하는 역할을 합니다.