ÀϹÝÀûÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ ÁýÀûȸ·Î, CRT¿ë Shadow Mask, Lead Frame
µîÀ» ¸¸µé ¶§ »ç¿ëµÇ´Â ±â¼ú·Î
Photolithography ±â¼ú°ú Etching ±â¼ú ÀÌ
Á¢¸ñµÈ ±â¼úÀ» ¸»ÇÑ´Ù.
Photolithography ±â¼úÀº PatternÀ» Çü¼ºÇÏ
±â À§ÇÏ¿© Substrate À§¿¡ °¨±¤¾×À» µµÆ÷ÇÏ
°í, Photo MaskÀ» ÅëÇÏ¿© Àڿܼ±À¸·Î °¨±¤¸·
À» ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î ³ë±¤ÇÏ°í Çö»óÇÕ´Ï´Ù.
Çö»óµÈ °¨±¤¸·Àº ±× ´ÙÀ½ °øÁ¤ÀÎ Etching(½Ä
°¢) °øÁ¤¿¡¼ º¸È£¸·À¸·Î ÀÛ¿ëÇÏ¿© ¿øÇÏ´Â ºÎ
ºÐ¸¸ ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î °¡°øµÇµµ·Ï ÇÏ´Â ¿ªÇÒÀ» ÇÕ´Ï´Ù. |